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| 利用ITO靶材回收制备金属铟 |
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ITO靶材是电子信息产业中显示器镀膜用电极材料,工业上采用ITO靶材磁控溅射方法制备ITO薄膜,但是,靶材溅射镀膜过程中利用率低,加上靶材加工过程中产生的边角料和切屑,使其利用率仅达到30%。因此利用废靶材回收金属铟成为再生铟的主要来源,回收处理ITO废靶材具有重要的理论意义和实际应用价值。金属铟主要用来制造半导体化合物,是微电子学仪器的基础材料,随着半导体工业的发展,对金属铟的纯度的要求越来越高。 本文研究了采用废ITO靶材回收制备金属铟工艺中的主要影响因素,结果表明,当盐酸浓度为6mol/L、用量为理论用量的4倍,温度90℃时,靶材溶解迅速完全;熔炼最佳温度400℃。最佳电解工艺条件为:pH=2-3,一次电解槽电压300-350mV,二次电解槽电压260-300mV,极距60-80mm,电流密度60-80A·m~(-2),电解温度20-30℃。得到金属铟纯度99.9956%,符合铟锭国标YS/T257-1998要求,铟总回收率91%。整个实验过程具有能耗低,流程简单及铟回收率高等优点。
【关键词】：有色冶金 铟锡氧化物(ITO)靶材 溶解 置换 电解 金属铟
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